摘　要：硬質涂層對工件表面改性已經(jīng)成為現(xiàn)代先進制造加工行業(yè)越來越重視的工藝,工件一般為復雜外形,保證工件表面涂層性能結構的一致性尤為重要,為此,必須研究工件與靶源之間的相對位置對涂層結構性能影響的關系,為涂層工藝的工程化應用提供理論依據(jù).本文采用射頻反應磁控濺射分別在高速鋼和單晶硅片基體上沉積了氧化鉻薄膜,研究了樣品表面與靶表面相對取向對涂層的相結構、表面和斷面形貌、力學性能、生長模式等因素的影響.結果表明濺射方法沉積涂層的臨界角度為45°,該臨界點決定了涂層的性質與生長模式.

　　關鍵詞：濺射角;顯微結構;反應磁控濺射;氧化鉻薄膜

　　分類號：TG174.444;O484.4　文獻標識碼：A

　　文章編號：1672-7126(2008)增刊-013-04

Sputtering Angle and Quality of Chromium Oxide Coatings on Irregularly Shaped Work-Piece

Luo Qinghong　 Yang Huisheng　 Zhang Tianwei　 Wang Yanbin　 Lu Yonghao　 Yu Dongli

　　楊會生,聯(lián)系人:Tel:13910651209,Fax:(010)82376048,E-mail:hyang@263.net

　　作者單位：羅慶洪(北京科技大學,材料物理與化學系,北京,100083)

　　楊會生(北京科技大學,材料物理與化學系,北京,100083)

　　張?zhí)靷?北京科技大學,材料物理與化學系,北京,100083)

　　王燕斌(北京科技大學,材料物理與化學系,北京,100083)

　　陸永浩(北京科技大學,材料物理與化學系,北京,100083)

　　于棟利(燕山大學材料科學與工程學院,秦皇島,066004)

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