離子束流和基底溫度對(duì)ZrN/TiAlN納米多層膜性能的影響
摘 要:本文利用高真空離子束輔助沉積系統(tǒng)(IBAD),在室溫下制備了ZrN、TiAlN和一系列ZxN/TiAlN納米多層膜,利用XRD、納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)和多功能材料表面性能實(shí)驗(yàn)儀,分析了束流和基底溫度對(duì)薄膜的微結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能的影響.結(jié)果表明:大部分多層膜的納米硬度與彈性模量值都高于兩種個(gè)體材料硬度的平均值,當(dāng)輔助束流為5 mA時(shí),多層膜硬度達(dá)到30.6 GPa.基底溫度的升高,會(huì)顯著降低薄膜的殘余應(yīng)力,但對(duì)薄膜的硬度,摩擦系數(shù)沒(méi)有明顯影響.
關(guān)鍵詞:離子束輔助沉積;ZrN/TiAlN納米多層膜;硬度;離子束流;基底溫度
分類號(hào):O484 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A
文章編號(hào):1672-7126(2008)增刊-029-04
Deposition Conditions and Mechanical Properties of ZrN/TiAlN Nanoscaled Multilayered Coatings
Cao Meng Li Qiang Yang Ying Deng Xiangyun Li Dejun