采用電弧離子鍍技術(shù)在45#鋼襯底表面沉積了TiN薄膜。用顯微硬度計(jì)測(cè)試了薄膜的硬度，用球—盤式摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)評(píng)價(jià)了在不同測(cè)試條件下（干摩擦，水潤(rùn)滑，油潤(rùn)滑）TiN薄膜的摩擦學(xué)性能，用表面輪廓儀測(cè)試了磨痕處的磨痕輪廓，用配有能譜儀（EDS）的掃描電鏡（SEM）觀察和測(cè)試了磨痕形貌和磨痕處主要化學(xué)元素組成。結(jié)果表明，相對(duì)于干摩擦，水潤(rùn)滑和油潤(rùn)滑條件下，TiN薄膜的摩擦系數(shù)和磨痕深度都有明顯降低的趨勢(shì)。干摩擦條件下，薄膜表現(xiàn)為磨粒磨損和氧化磨損；水潤(rùn)滑條件下，薄膜表現(xiàn)為疲勞磨損，水對(duì)薄膜起到邊界潤(rùn)滑作用；油潤(rùn)滑條件下，薄膜幾乎無(wú)磨損，油起到流體潤(rùn)滑作用。

　　正文：表面強(qiáng)化技術(shù)可以改變零件表面的化學(xué)成分、相結(jié)構(gòu)、顯微組織和應(yīng)力狀態(tài)，可以顯著提高工具使用壽命。TiN,TiC,和類金剛石薄膜等表面強(qiáng)化技術(shù)一直是國(guó)內(nèi)外研究的熱點(diǎn)。在各種新興的薄膜材料中，TiN薄膜是研究最早，應(yīng)用最為廣泛的一種薄膜材料。這是因?yàn)門iN薄膜具有高硬度，良好的化學(xué)惰性，獨(dú)特的顏色。這些非凡的特點(diǎn)使得TiN在耐磨和耐腐蝕的表面涂層，半導(dǎo)體的擴(kuò)散阻擋層，裝飾行業(yè)等均有廣泛應(yīng)用。而且相比其他硬質(zhì)薄膜材料，比如（Ti Al）N，（Ti Si）N等，TiN薄膜具有制備工藝相對(duì)簡(jiǎn)便的優(yōu)勢(shì)。不同使用條件下，對(duì)于刀具，模具來(lái)說(shuō)其摩擦磨損特性嚴(yán)重影響了其切削性能和使用壽命。因此,不同介質(zhì)條件下，對(duì)作為表面涂層材料的摩擦磨損特性的研究具有重要意義。

　　本文采用電弧離子鍍技術(shù)在45#鋼基片上沉積了TiN薄膜。研究了不同介質(zhì)條件下，TiN薄膜的摩擦磨損特性。

1、實(shí)驗(yàn)方法

　　基體材料采用45#鋼，尺寸為φ30 mm×3 mm。試樣經(jīng)不同號(hào)數(shù)金相砂紙打磨拋光，再用丙酮和乙醇超聲波分別清洗10min后，用熱風(fēng)吹干放入真空室。采用國(guó)產(chǎn)電弧離子鍍膜機(jī)沉積了TiN薄膜。所用陰極靶為純度為99.99%的Ti 靶。所用氣體為高純N2（純度99.99%），真空室背底真空度為5×10^-3Pa。薄膜沉積時(shí)，氮?dú)夥謮簽?Pa，基片負(fù)偏壓為100V，弧電流為70A，沉積時(shí)間為1h。

　　采用HXD-1000TMC顯微硬度計(jì)（載荷10g，保持時(shí)間10s） 測(cè)定薄膜的顯微硬度。采用瑞士CSM公司生產(chǎn)的球- 盤式摩擦磨損實(shí)驗(yàn)機(jī)測(cè)定不同介質(zhì)條件下（干摩擦，水潤(rùn)滑，油潤(rùn)滑）薄膜的摩擦磨損性能（偶件為φ6 mm 的Si₃N₄球，旋轉(zhuǎn)式，載荷2N，轉(zhuǎn)速500rpm，摩擦距離1000 m）。采用JB- 4C 表面輪廓儀測(cè)得不同介質(zhì)條件下，薄膜磨痕處磨損輪廓圖。用配備能譜儀（EDS） 的TESCANVEGAⅡLMU 型掃描電子顯微鏡（SEM）分析了不同介質(zhì)條件下分別摩擦1000 m 后薄膜表面磨痕形貌和磨痕處主要元素組成。

2、實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析

2.1、不同測(cè)試條件下TiN薄膜摩擦因數(shù)對(duì)比

　　顯微硬度計(jì)（載荷10g，保持時(shí)間10s）測(cè)定薄膜的顯微硬度為1497.1HV，表面粗糙度儀測(cè)定薄膜的表面粗糙度Ra為0.110，臺(tái)階法測(cè)定薄膜厚度為2 μm。所測(cè)薄膜的硬度值偏低，一方面是因?yàn)槌练e過(guò)程中熔融液鈦滴附著在薄膜表面，在薄膜表面形成大顆粒以及多弧離子鍍自身存在的缺陷微孔洞的形成，使得薄膜表面結(jié)構(gòu)疏松，硬度值相對(duì)較低；另一方面是由于薄膜較薄，所測(cè)顯微硬度值受基體的影響較大。圖1 為在干摩擦，水潤(rùn)滑，油潤(rùn)滑三種不同介質(zhì)條件下，對(duì)TiN薄膜的摩擦系數(shù)進(jìn)行了對(duì)比。干摩擦和水潤(rùn)滑條件下，薄膜的摩擦系數(shù)隨著磨損距離的增加經(jīng)歷了三個(gè)階段：上升達(dá)到峰值隨后下降最終達(dá)到穩(wěn)定。首先，薄膜表面吸附了有機(jī)污染物薄層，導(dǎo)致初期的摩擦系數(shù)較低，當(dāng)吸附層磨損脫落后，摩擦系數(shù)逐漸增大。其次，摩擦過(guò)程中產(chǎn)生的硬質(zhì)TiN 磨粒增強(qiáng)了犁削作用，使摩擦系數(shù)逐漸增大，隨著反復(fù)摩擦，薄膜表面的有機(jī)污染物被磨除，最終摩擦系數(shù)趨于穩(wěn)定，這可能是由于偶件磨損表面產(chǎn)生的磨屑在TiN 薄膜表面發(fā)生堆積，并進(jìn)而形成轉(zhuǎn)移層所致。但相對(duì)于干摩擦條件下，水潤(rùn)滑條件下薄膜的摩擦系數(shù)明顯降低（約0.18），在摩擦過(guò)程中Si3N4跟水反應(yīng)生成Si（OH）₄ 在薄膜表面形成轉(zhuǎn)移膜，轉(zhuǎn)移膜的存在避免了偶件與TiN 薄膜的直接接觸，極薄的轉(zhuǎn)移膜在低剪切應(yīng)力作用下在薄膜表面流動(dòng)，改變了摩擦界面滑行機(jī)制，從而降低了摩擦系數(shù)，說(shuō)明水對(duì)薄膜起到邊界潤(rùn)滑作用。而在油潤(rùn)滑條件下，薄膜的摩擦因數(shù)始終保持在較低的水平（約0.033），是因?yàn)橛蜐?rùn)滑條件下，薄膜和摩擦對(duì)偶件之間形成了油的吸附膜避免了摩擦副之間的直接接觸降低了摩擦系數(shù)，說(shuō)明油對(duì)TiN薄膜有很好的潤(rùn)滑效果。

圖1 (a)干摩擦，(b)水潤(rùn)滑和(c)油潤(rùn)滑條件下,TiN薄膜的摩擦系數(shù)

2.2、不同測(cè)試條件下，TiN薄膜磨痕形貌對(duì)比

　　圖2為在干摩擦，水潤(rùn)滑，油潤(rùn)滑三種不同介質(zhì)條件下分別摩擦1000m后TiN薄膜磨痕處表面形貌的SEM照片。在干摩擦條件下，一方面摩擦磨損過(guò)程中由微凸體與增強(qiáng)顆粒接觸面承受載荷，必然在兩者的界面上形成較高的應(yīng)力集中，這一局部的高應(yīng)力使部分薄膜顆粒剝落，破碎或顆粒剝落形成游離的第三體TiN顆粒，較硬的磨粒在兩個(gè)摩擦表面之間起到磨粒磨損作用，慢慢地壓入TiN薄膜表面進(jìn)行顯微切削，在TiN薄膜表面形成劃痕。另一方面從圖4磨痕處的化學(xué)元素分析可以看出薄膜氧含量較高，并且不含有N元素，說(shuō)明TiN 薄膜在摩擦磨損過(guò)程中被氧化為TiO₂，加速了TiN 薄膜的磨損。所以干摩擦條件下，TiN薄膜主要表現(xiàn)為磨粒磨損和氧化磨損。而在水潤(rùn)滑條件下，經(jīng)摩擦磨損后，TiN 薄膜表面出現(xiàn)形狀較為規(guī)則的顯微麻坑，都呈不規(guī)則的長(zhǎng)菱形，其長(zhǎng)度方向垂直摩擦磨損的方向。在摩擦過(guò)程中，由于其中最大切應(yīng)力的結(jié)果，造成距離表面一定深度處為頂點(diǎn)，其理想點(diǎn)蝕平行于最大切應(yīng)力方向的倒立圓錐形麻點(diǎn)坑。同時(shí)還在旋轉(zhuǎn)滑動(dòng)，則在半徑較大的滾動(dòng)體表面接觸滾動(dòng)方向?qū)�產(chǎn)生附加的正劃移。由于正劃移的加入，將使得最大切應(yīng)力作用面上出現(xiàn)不規(guī)則菱形狀麻點(diǎn)。由于滾動(dòng)過(guò)程存在一定的滑動(dòng)，使得麻點(diǎn)呈長(zhǎng)菱形�？赡苤饕�是從表面的缺陷處（晶界或顯微空洞處）開始萌生裂紋，裂紋在循環(huán)接觸應(yīng)力作用下逐漸由表面向膜層的亞表面擴(kuò)展，最終形成顯微麻坑。