摘　要：本文利用非平衡磁控濺射設(shè)備,采用四種不同的TiN到Ti-O的過渡方式,在Si(100)和Ti6A14V基體上制備了TiN/Ti-O薄膜.采用X射線衍射(XRD)分析薄膜的結(jié)構(gòu);使用AMBIOSXP-2臺階儀檢測薄膜應(yīng)力;利用XDl000B knoop型顯微硬度儀、瑞士CSEM銷盤摩擦磨損實驗機、WS-97系統(tǒng)劃痕實驗機對薄膜的力學(xué)性能進(jìn)行檢測.結(jié)果表明,在鈦合金表面制備TiN薄膜后,逐漸降低N2流量至0 sccm,沉積一層Ti膜,再用逐漸通入O2制備Ti-O薄膜的工藝制備的TiN/Ti-N/Ti/Ti-O薄膜具有較好的力學(xué)性能.

　　關(guān)鍵詞：TiN/Ti-O復(fù)合薄膜;非平衡磁控濺射;耐磨性;膜基結(jié)合力

　　分類號：TB34　文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A

　　文章編號：1672-7126(2008)增刊-047-05

Mechanical Properties of TiN/Ti-O Composite Films Grown by Unbalanced Magnetron Sputtering

He Chan　 Qi Feng　 Leng Yongxiang　 Huang Nan