TiC薄膜的性能研究

2020-04-18 真空技術(shù)網(wǎng) 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)

  摘 要:采用磁過濾直流電弧離子鍍法在不同的CH4分壓下制備了一系列的TiC薄膜,利用XRD和EDX表征了薄膜的相組成和微結(jié)構(gòu),用MCMS-1摩擦磨損測(cè)試儀,研究了不同CH4分壓對(duì)薄膜摩擦性能的影響,采用DURAMIN-10型丹麥全自動(dòng)顯微硬度儀,研究不同CH4分壓對(duì)薄膜硬度的影響.結(jié)果表明,不同CH4分壓對(duì)薄膜的相組成、微結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能均有明顯的影響,高的CH4分壓下,薄膜的摩擦系數(shù)較低,CH4分壓提高到0.15 Pa左右,薄膜內(nèi)形成晶粒細(xì)小的單相TiC,進(jìn)一步提高CH4分壓,薄膜呈現(xiàn)非晶態(tài).

  關(guān)鍵詞:TiC薄膜;脈沖真空電弧離子鍍;微結(jié)構(gòu);力學(xué)性能

  分類號(hào):O484.4 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A

  文章編號(hào):1672-7126(2008)增刊-056-04

Growth and Mechanical Properties of TiC Coatings

Shao Xiao  Zhu Chang  Liang Haifeng