真空在鍍膜工業(yè)中的應用
真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支,它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發(fā),理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。
如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話,這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分,其分類如表 6 所示,F就其幾個主要應用方面做一簡單介紹。
首先在光學方面,一塊光學玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質的薄膜后,即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料,也可以作成對某種波長的吸收,而對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉,都很需要。
增透膜則大量用于照相和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃,都很需要。增透膜則大量用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。
在顯示器件方面,錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。在元件方面,在真空中蒸發(fā)鎳鉻,鉻或金屬陶瓷可以制造電阻,在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器,蒸發(fā)硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。
此外還可以對珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜,以及采用濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍制備鈦金制品,如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄桿等目前正在盛行。
表 6 真空表面處理技術的分類
表面處理目的 |
處理方法 |
粒子運動能量 |
工作方式 |
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等離子體 |
高真空 |
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薄膜沉積(表面厚度增加) |
PVD |
真空蒸發(fā)鍍膜 |
0.1~1ev |
等離子熔射輝光放電分解 |
電阻加熱蒸發(fā) 加子束蒸發(fā) 真空電弧蒸發(fā) 真空感應蒸發(fā) 分子束外延 |
蔗農濺射鍍膜 |
10~100ev |
放電方式:直流、交流、高頻 電極數值: 2 級、 3 級、 4 級 反應濺射、磁控濺射、對向靶濺射 |
離子束濺射鍍膜 |
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真空離子鍍膜 |
數 10~5000ev |
直流二級型 多陰極型 ARE 型、增強 ARE HCD 型 高頻型 |
單一離子束鍍膜 集團離子束鍍膜 |
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CVD |
化學反應熱擴散 |
等離子增強化學氣和沉積( PCVD ) |
低壓等離子化學氣相沉積 ( LPCVD ) |
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微細加工(表面厚度減少) |
離子刻蝕 |
數百 ev~ 數 kev |
高頻濺射刻蝕 等離子刻蝕 反應離子刻蝕 |
離子束刻蝕 反應離子束刻蝕 電子束刻蝕 X 射線曝光 |
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表面改性(不改變表面厚度) |
離子注入 |
數 kev~1000kec |
活性離子沖擊離子氮化 |
離子注入 |