氮氧化鉿薄膜透射率高，帶隙寬，機(jī)械性能好，是一種較好的窗口保護(hù)薄膜。采用離子束輔助反應(yīng)蒸發(fā)的方法沉積具有高透射率的多光譜氮氧化鉿薄膜，通過控制沉積速率改變膜層中N、O 化學(xué)計量比，研究氮氧化鉿中N、O 化學(xué)計量比不同對薄膜力學(xué)和光學(xué)性能的影響規(guī)律。隨著沉積速率從0.8 減小到0.05 nm/s，氮含量增高，薄膜的硬度從7.29 增大到10.67 GPa，氮氧化鉿薄膜的折射率從1.95 降低到1.80，而消光系數(shù)從1 × 10 ^-3 增大到8 × 10 ^-3，禁帶寬度從5.62 減小到5.5eV。

　　紅外窗口材料除了必須具有高的紅外透過率、低吸收系數(shù)等優(yōu)良特性外，還必須具有高的機(jī)械強(qiáng)度、耐磨損、抗風(fēng)沙雨蝕、抗化學(xué)腐蝕等性能，且在高溫、低溫及輻射作用等各種苛刻條件下，其光學(xué)和物理化學(xué)性能穩(wěn)定性良好。

　　目前使用的ZnS 紅外光學(xué)材料，不能同時具有所需的光學(xué)、熱學(xué)性能和機(jī)械性能。氧化鉿密度9.68 g /cm³，熔點2758℃，作為金屬氧化物，其原子結(jié)合以離子鍵為主，原子間有較強(qiáng)的結(jié)合力。此外，氧化鉿有較大的能帶帶隙( 5.68 eV) ，故而薄膜從可見光到紅外光波段( 0.2 ～ 12 μm) 都有較高的透過率，而鉿的氮氧化物具有更高的硬度，同時在中波紅外和長波紅外具有較高的透射率。在ZnS 基片上鍍制氮氧化鉿薄膜是解決紅外光學(xué)系統(tǒng)窗口材料問題的可行辦法，這種膜層除具有紅外透明、吸收系數(shù)小等優(yōu)良的光學(xué)性能外，還應(yīng)能抗熱沖擊、耐高溫，與襯底附著良好。氮氧化鉿薄膜作為多元化合物，討論N、O 不同化學(xué)計量比對其力學(xué)和光學(xué)性能影響就具有重要意義。

1、實驗

　　離子束輔助反應(yīng)技術(shù)是在氣相沉積鍍膜的同時，利用載能離子轟擊薄膜表面，將其攜帶的能量通過轟擊過程轉(zhuǎn)移給薄膜原子，同時離子與氣相沉積的原子、離子發(fā)生反應(yīng)，生成薄膜。

　　在美國DENTON 公司引進(jìn)的全自動離子輔助光學(xué)鍍膜機(jī)上進(jìn)行氮氧化鉿薄膜的鍍制工作。采用電子槍蒸發(fā)、離子束輔助反應(yīng)的方法鍍制，基底用的是化學(xué)氣相沉積(CVD) ZnS 基片，如圖1 所示。實驗步驟為：首先清洗基底，先后用純度為99. 9% 的丙酮和無水乙醇超聲波各清洗15 min，用專用清潔紙擦干后裝入真空室；用機(jī)械泵和擴(kuò)散泵將真空度抽至2 × 10 ^-2 Pa 后，將真空室加熱到150℃，保持30min，使真空室內(nèi)壁上的氣體盡量放出來，以提高沉積時的真空度。待本底真空度達(dá)到3 × 10 ^-3 Pa，開始離子源清洗。用離子源轟擊基底10 min，其中在轟擊時離子源的能量控制在60 ～ 90 eV。

圖1 離子束輔助反應(yīng)鍍膜系統(tǒng)示意圖

　　采用純度99.99% 的氧化鉿膜料，通過調(diào)整電子槍的束流密度來調(diào)整蒸發(fā)速率，改變了HfOxNy中x、y 的值，得到不同化學(xué)計量比的氮氧化鉿薄膜。Hf、N 之間成鍵結(jié)合困難，只要有O 存在，Hf 總是容易與O 結(jié)合，這使我們在試圖制備氮氧化鉿薄膜時，要盡可能得制定、使用一些有利于鉿氮結(jié)合的條件。

　　選取不同沉積速率下的樣品進(jìn)行氮氧化鉿薄膜鍍制實驗，沉積時離子源通氮?dú)猓�通氣�?0 mL/min( 標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)) ，沉積時基片溫度為150℃。其中1 號- 5 號分別表示沉積速率為0.05，0.10，0.20，0.40，0.80 nm/s 的樣品，膜層厚度均為1500 nm。

3、結(jié)論

　　采用離子束輔助反應(yīng)沉積的方法，通過控制氧化鉿的沉積速率調(diào)整氮氧化鉿薄膜中N、O 比例，得到不同N、O 化學(xué)計量比的氮氧化鉿薄膜，并討論其力學(xué)和光學(xué)特性。隨著沉積速率從0.8 減小到0.05 nm/s，氮含量增高，薄膜的硬度增大，從7.29增大到10.63 GPa。隨著沉積速率越小，薄膜中的氮含量越高，氮氧化鉿薄膜的折射率越小，消光系數(shù)越大，沉積速率從0.8 減小到0.05 nm/s，折射率從1.95 降低到1.80，而消光系數(shù)從1 × 10 ^-3 增大到8× 10 ^-3，禁帶寬度從5.62 減小到5.5 eV。