退火溫度對CuGa0.8Ge0.2Se2薄膜結構及光學特性的影響
采用脈沖激光沉積法在SiO2襯底上制備了CuGa0.8Ge0.2 Se2薄膜。采用X 射線衍射和X 射線能譜儀研究了退火溫度對薄膜晶體結構和成分的影響,利用掃描電子顯微鏡表征了薄膜的表面形貌,采用紫外—可見分光光度計分析了薄膜的光學特性。結果表明,在CuGaSe2中摻雜Ⅳ族元素Ge,光子吸收能量分別為0.65 和0.92 eV,禁帶寬度為1.57 eV,能夠形成中間帶。并隨著退火溫度的升高,CuGa0.8Ge0.2 Se2薄膜的光學帶隙逐漸減小。
中間帶太陽能電池是很有潛力的太陽能電池之一,其理論效率最高能達到63.2%,這高于單節(jié)太陽能電池的極限效率40.7%,也高于兩節(jié)疊層太陽能電池的極限效率55.4%。目前實現(xiàn)中間帶材料有三種方法:即量子點中間帶電池、雜質(zhì)帶電池、高失配合金,其中,利用雜質(zhì)摻雜形成中間帶的方法簡單、有效。由于銅基化合物合金的帶隙非常接近中間帶材料理想禁帶寬度,且載流子的壽命也較長,使之成為當前雜質(zhì)帶電池研究的熱點。
2010年Tablero的理論研究發(fā)現(xiàn),第Ⅳ族元素部分替代CuGaX2( X = S、Se) 中的Ga 或Cu 可形成中間帶,轉換效率可能達到半導體光伏理論的極限效率。2013年,Yong 等報道了第四族元素Sn 摻雜的GuMS2( M = In,Ga) 納米顆粒薄膜,通過漫反射光譜與發(fā)光譜的結果證實了中間帶的存在。盡管人們對銅基化合物CuGaSe2摻雜形成中間帶做了許多研究,但是制備中間帶的工藝研究較少。本文采用脈沖激光沉積(PLD) 方法,將Ⅳ族元素Ge 摻雜在CuGaSe2中,在鈉鈣玻璃上沉積一定厚度的納米薄膜,采用X 射線衍射(XRD) 研究了退火溫度對薄膜晶體結構和成分的影響,掃描電鏡(SEM) 表征了薄膜的表面形貌,采用紫外-可見分光光度計分析了薄膜的光學特性。
1、實驗
本實驗采用中科院沈陽科學儀器廠生產(chǎn)的PLD-450 型脈沖激光濺射儀,美國相干公司(Coherent Inc. )生產(chǎn)的COMPexPro201 脈沖準分子激光器,工作電壓為18 ~27 kV,能量為250 ~700 mJ/脈沖;靶材采用高純CuGa0. 8Ge0. 2Se2靶材( 純度99.999%) 。
將靶材和鈉鈣玻璃襯底固定在相應的樣品架上,襯底和靶材的距離為5 cm,襯底溫度為500℃,系統(tǒng)真空度為6.7 × 10 -5 Pa,激光器工作模式為恒壓26 kV,激光能量在250 ~350 mJ,頻率為10 Hz。每次更換靶材后,需用擋板擋住襯底,濺射1000 個脈沖,以去除靶材表面氧化層和其它雜質(zhì),然后打開擋板,此時靶材開始消熔,通過調(diào)節(jié)激光的能量以及脈沖次數(shù)來控制薄膜的厚度。制備樣品退火條件為:氬氣保護下,溫度分別為400,500,600℃下熱處理30 min。
物相結構分析采用XRD( 德國BRUKDR,D8-ADVANCE 型) 分析,測試條件為Cukα 輻射,λ =0.154187 nm,電壓40.0 kV,電流50 mA,掃描速率10°/min,掃描范圍2θ:20° ~80°,通過與標準PDF卡片對照得到樣品的物相;薄膜表面觀測采用掃描電子顯微鏡( S-3400 型,日立牌);薄膜透過及反射率測試采用紫外—可見分光光度計(PerkinElmer 公司,Lambda750S);薄膜成分分析采用EDS。
3、結論
(1) 利用PLD 制備CuGa0.8Ge0.2Se2薄膜,退火溫度為600℃時,(112) 擇優(yōu)取向最明顯。隨著退火溫度的升高,CuGa0.8Ge0.2Se2薄膜平均晶粒尺寸逐漸增大,光學帶隙逐漸變小,其光學帶隙分別為1.6,1.58 和1.57 eV。
(2) CuGa0.8Ge0.2Se2中摻雜Ⅳ族元素Ge后形成中間帶隙,價帶到中間帶的光子吸收能量為0.65eV,中間帶到導帶的光子吸收能量為0.92 eV,禁帶寬度為1.57 eV。