JB/T 6922-2004 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

2009-06-22 全國(guó)真空技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì) 真空技術(shù)網(wǎng)整理

JB/T 6922—2004 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

Vacuum evaporation coating plant

本標(biāo)準(zhǔn)是對(duì)JB/T 6922一1993《真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備》的修訂

本標(biāo)準(zhǔn)與JB/T 6922-1993相比,主要變化如下:

— 增加了原標(biāo)準(zhǔn)的“4.1工作環(huán)境條件”的內(nèi)容;

一增加了4.3.6, 4.3.7, 4.4.12等條款;

— 糾正了某些錯(cuò)誤概念,如將原標(biāo)準(zhǔn)的:“4.2.8...在產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)規(guī)定的參數(shù)范圍內(nèi)......”修訂為 “4 .2. 8...在產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求規(guī)定的參數(shù)范圍內(nèi)......’。

本次修訂按GB/T 1.1-2000標(biāo)準(zhǔn)對(duì)JB/T 6922-1993的標(biāo)準(zhǔn)格式進(jìn)行了調(diào)整

本標(biāo)準(zhǔn)代替JBfT 6922- 1993

1、范圍

JB/T 6922—2004 真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的型式和基本參數(shù)、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存等要求。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于極限壓力在5x10-4Pa-5 x10 -3Pa范圍的真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備(以下簡(jiǎn)稱(chēng)設(shè)備)

2、規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)

GB/T191包裝儲(chǔ)運(yùn)圖示標(biāo)志(GB/T 191-2000,e qvIS O7 80: 1997)

GB/T 6070 真空法蘭(GB/T6 070-1995,e qv ISO 1609: 1 98 6, V acuum technology-Flangedimensions)

GB/T 11164-1999 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件

GB/T 13306 標(biāo)牌

JB/T 1090 J型真空用橡膠密封圈型式及尺寸

JB/T 1091 JO型和骨架型真空用橡膠密封圈型式及尺寸

JB/T 1092 O型真空用橡膠密封圈型式及尺寸

JB/T 7673 真空設(shè)備型號(hào)編制方法

3、型式與基本參數(shù)

3、結(jié)構(gòu)形式

設(shè)備主要由鍍膜室、蒸發(fā)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機(jī)架、保護(hù)裝置及電氣控制裝置組成。

3.2 基本參數(shù)

設(shè)備的基本參數(shù)應(yīng)符合表1的規(guī)定。

JB/T6922—2004真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 

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