中國真空學(xué)會2014學(xué)術(shù)年會第一輪征文通知
為了廣泛交流學(xué)術(shù)思想,充分展現(xiàn)科技發(fā)展的創(chuàng)新思路和觀點,為真空領(lǐng)域創(chuàng)造良好的學(xué)術(shù)環(huán)境和條件,促進(jìn)我國真空事業(yè)穩(wěn)健發(fā)展,中國真空學(xué)會2014學(xué)術(shù)年會將于11月7日—9日在廣州召開。大會將設(shè)一個主會場和六個分會場。(六個分會場分別是:1、真空科技與工程;2、表面科學(xué)與應(yīng)用;3、薄膜科學(xué)與技術(shù);4、納米科學(xué)與技術(shù);5、電子材料與器件、等離子體技術(shù);6、顯示技術(shù)等)。會議期間將同時召開中國真空學(xué)會第八次全國會員代表大會。
熱烈歡迎全體理事、會員、廣大科技工作者、企業(yè)代表積極參加會議并踴躍投稿。學(xué)術(shù)交流將采取多種形式:大會特邀報告,分會邀請報告,分會口頭報告,張貼報告,以及真空產(chǎn)品推介等。會間將頒發(fā)2014年度“中國真空科技成就獎”和“中國真空科技青年創(chuàng)新獎”,并評選學(xué)生“最佳張貼報告獎”。
征文范圍
1. 真空科學(xué)與技術(shù)、真空工程;
2. 表面科學(xué)與技術(shù);
3. 應(yīng)用表面科學(xué)與技術(shù);
4. 納米科學(xué)與技術(shù);
5. 納米生物與生物界面;
6. 薄膜生長機理、制備技術(shù)和應(yīng)用;
7. 真空獲得與測量、質(zhì)譜分析與檢漏;
8. 真空冶金與表面工程;
9. 電子材料與器件、真空微電子學(xué);
10. 等離子體物理與技術(shù);
11. 顯示技術(shù);
12. 其它相關(guān)科學(xué)技術(shù)。
一、征文要求
1、本次學(xué)術(shù)會議歡迎與會者踴躍投稿,只需提交論文摘要(中、英文均可),網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。
2、本次會議的摘要投稿采用網(wǎng)上進(jìn)行,網(wǎng)站域名:www.cvs.org.cn,將于7月1日開通。 參會者需要先在網(wǎng)站上注冊(免費),然后根據(jù)摘要模板撰寫摘要,并依照網(wǎng)站上的提示提交摘要。
3、開會前將出版論文摘要集。為統(tǒng)一摘要格式,請采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。
4、網(wǎng)上投稿時請務(wù)必提供報告人、所屬的分會編號(大會邀請報告除外)、以及報告類型等信息。
5、摘要是否被錄用、以及報告類型的決定將在2014年10月份另行通知作者。
6、對于口頭報告,會議準(zhǔn)備有多媒體設(shè)備,但請自備U盤。張貼報告請自己打印好。
二、截稿日期
1、摘要截稿日期:2014年9月30日前。
2、摘要投稿過程中,如果遇到學(xué)術(shù)問題,請與所屬分會的負(fù)責(zé)人聯(lián)系。
3、摘要投稿過程中,如果遇到技術(shù)問題,請與中國真空網(wǎng)負(fù)責(zé)人聯(lián)系。
4、建議參加《中國真空學(xué)會第八次全國會員代表大會》、但不參加學(xué)術(shù)會議的代表也在網(wǎng)上注冊,以便會議收集信息和進(jìn)行統(tǒng)計。對于上網(wǎng)不方便的代表,可以采用回執(zhí)注冊。
三、聯(lián)系方式
會務(wù)聯(lián)系人:中國真空學(xué)會辦公室 劉 鋒
地址:北京市朝陽區(qū)建國路93號萬達(dá)廣場9號樓612室;郵編:100022
電話:010-58208908/58208985 傳真:58207735 QQ:2317369989
E-mail:cvs@chinesevacuum.com zgzkxh@chinesevacuum.com
*會議組強烈建議與會者通過網(wǎng)上在線系統(tǒng)(www.cvs.org.cn)注冊并提交摘要。但因為這是學(xué)會學(xué)術(shù)會議第一次采用網(wǎng)上系統(tǒng),因此對于那些不方便上網(wǎng)的參會人員,仍然接受紙質(zhì)回執(zhí)或電子郵件回執(zhí)。
回執(zhí)請寄:100022 北京市朝陽區(qū)建國路93號萬達(dá)廣場9號樓612室或發(fā)E-mail至cvs@chinesevacuum.com zgzkxh@chinesevacuum.com
點擊下載:中國真空學(xué)會2014學(xué)術(shù)年會回執(zhí)
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