中國真空學(xué)會(huì)2016學(xué)術(shù)年會(huì)征文通知(第一輪)
中國真空學(xué)會(huì)2016 學(xué)術(shù)年會(huì)第一輪征文通知
由中國真空學(xué)會(huì)主辦、云南師范大學(xué)與北京大學(xué)承辦的中國真空學(xué)會(huì) 2016 學(xué)術(shù)年會(huì)將于2016年8月12-14 日在云南省昆明市舉辦。熱切希望全體學(xué)會(huì)會(huì)員、理事及科研院所、企業(yè)同仁等踴躍撰稿,積極參加。
學(xué)術(shù)交流將采取多種形式:大會(huì)特邀報(bào)告,分會(huì)邀請(qǐng)報(bào)告,分會(huì)口頭報(bào)告,張貼報(bào)告, 以及真空產(chǎn)品推介等。 會(huì)間將頒發(fā) 2016 年度 “中國真空科技成就獎(jiǎng)” 和 “中國真空科技青年創(chuàng)新獎(jiǎng)”,并評(píng)選“最佳張貼報(bào)告獎(jiǎng)” 。
本次會(huì)議共分12個(gè)研究主題:
1. 真空科學(xué)與技術(shù)、真空工程;
2. 表面科學(xué)與技術(shù);
3. 應(yīng)用表面科學(xué)與技術(shù);
4. 納米科學(xué)與技術(shù);
5. 納米生物與生物界面;
6. 薄膜生長機(jī)理、制備技術(shù)和應(yīng)用;
7. 真空獲得與測(cè)量、質(zhì)譜分析與檢漏;
8. 真空冶金與表面工程;
9. 電子材料與器件、真空微電子學(xué);
10. 等離子體物理與技術(shù);
11. 顯示技術(shù);
12. 其它相關(guān)科學(xué)技術(shù)。
一、征文要求
1、本次學(xué)術(shù)會(huì)議歡迎與會(huì)者踴躍投稿,只需提交論文摘要(中、英文均可) ,網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。
2、本次會(huì)議的摘要投稿采用網(wǎng)上進(jìn)行,網(wǎng)站:www.cvsnet.org.cn,網(wǎng)站運(yùn)行投稿時(shí)間為2016年2月,參會(huì)者需要先在網(wǎng)站上注冊(cè)(免費(fèi)) ,然后根據(jù)摘要模板撰寫摘要,并依照網(wǎng)站上的提示提交摘要。
3、開會(huì)前將出版論文摘要集。為統(tǒng)一摘要格式,請(qǐng)采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。
4、網(wǎng)上投稿時(shí)請(qǐng)務(wù)必提供報(bào)告人、所屬的分會(huì)編號(hào)(大會(huì)邀請(qǐng)報(bào)告除外) 、以及報(bào)告類型等信息。
5、摘要是否被錄用、以及報(bào)告類型的決定將在2016年7月份另行通知作者。
6、對(duì)于口頭報(bào)告,會(huì)議準(zhǔn)備有多媒體設(shè)備,但請(qǐng)自備 U 盤。張貼報(bào)告請(qǐng)行打印,尺寸:90cm× 120cm。
二、截稿日期
1、摘要截稿日期:2016年6月20日前。
2、摘要投稿過程中,如果遇到學(xué)術(shù)問題,請(qǐng)與所屬分會(huì)的負(fù)責(zé)人聯(lián)系。
3、摘要投稿過程中,如果遇到技術(shù)問題,請(qǐng)與中國真空網(wǎng)負(fù)責(zé)人聯(lián)系。
會(huì)務(wù)組:中國真空學(xué)會(huì)辦公室
地址:北京市朝陽區(qū)建國路93號(hào)萬達(dá)廣場9號(hào)樓612室
郵編:100022
電話:010-58208908/58208985 傳真:58207735
QQ1:2317369989
QQ2:1563526075
E-mail:cvs@chinesevacuum.com