1、真空規(guī)校準

　　利用靜態(tài)穩(wěn)壓比對法校準低真空規(guī)管，原理是通過微調閥向校準室注入一定量的氣體并使壓力穩(wěn)定，通過被校規(guī)測量的數(shù)值與標準規(guī)測量的數(shù)值進行比較，獲得被校規(guī)的相關參數(shù)。該方法適用于測量范圍在1×10^-1 Pa～133kPa 內的規(guī)管校準。因為校準壓力較高，為避免校準氣體對超高真空室的極限真空的影響，設計選用穩(wěn)壓室兼做低真空校準室。作為校準室，需要排除真空室自身放氣的影響，因此低真空校準室工作本底真空度需優(yōu)于1×10^-3 Pa。同時要求該校準室的極限真空優(yōu)于1×10^-4 Pa 來保證真空室自身的低泄漏率，避免泄漏的因素對測量結果帶來誤差。校準的標準規(guī)選用inficonCDG045 系列電容薄膜規(guī)，該系列薄膜規(guī)具有45℃溫包，溫度恒定，減少周邊環(huán)境溫度變化對規(guī)測量結果的影響，且該型薄膜規(guī)具有對氣體選擇性小、精度高、重復性好等特點。通過配備三只標稱量程分別是1000Torr、10Torr 和0.1Torr (1Torr=133Pa) 等于的電容薄膜規(guī)可以很好的覆蓋1×10^-1 Pa～133kPa 的校準量程范圍，測量精度也能達到校準要求。

　　利用動態(tài)比對法校準高真空規(guī)管，方法為利用穩(wěn)壓室建立氣體的穩(wěn)壓源，通過高精度的微調閥將氣體不斷地注入校準室，同時保持分子泵機組對真空校準室的抽氣，并通過微調閥調節(jié)氣體的流量，使校準室真空度維持在校準的真空度范圍內。為了保證校準室氣流的穩(wěn)定，校準室入口設計有散流板進行散流，雙球室之間通過小孔板穩(wěn)定氣體氣流。該方法適用于1×10^-1 Pa～1.0×10^-4 Pa 范圍的規(guī)管校準。一般要求校準室的工作本底真空度優(yōu)于1×10^-6 Pa。標準規(guī)采用布魯克斯的GP370 真空規(guī)，同時通過四極質譜計獲得的離子流的參數(shù)，換算出相應的分壓力值。微調閥采用安捷倫的面密封閥。

2、漏孔校準

　　漏孔校準采用四極質譜比對法校準。比對法校準較小漏率真空漏孔時，為了得到與被校漏孔相同或相近的氣體流量，一般采用固定流導法作為標準氣體流量獲得的手段，該方法具有結構簡單、操作方便、測量不確定度小、校準精度高等優(yōu)點。

　　原理為利用已知流量的標準漏孔，通過穩(wěn)壓室壓力的調節(jié)，向雙球校準室注入穩(wěn)定流量的氣體，并利用分子泵機組對真空校準室持續(xù)抽氣，并通過微調閥調節(jié)氣體的流量，使校準室壓力維持在合適的校準壓力范圍內，為校準室建立起漏孔氣體的動態(tài)平衡。首先利用四極質譜計獲得標準漏孔的離子流參數(shù)，再切換到被較漏孔，獲得被較漏孔狀態(tài)下的四極質譜計離子流。通過公式(1)計算得出被較漏孔漏率數(shù)值。

　　式中：QL—被較漏孔的漏率，Pa·m³/s；

　　IL—被校漏孔微流量對應的離子流，A；

　　IS—標準漏孔微流量所對應的離子流，A；

　　I0—系統(tǒng)本底離子流，A；

　　Q—標準漏孔的漏率，Pa·m³/s。