利用靜態(tài)膨脹法真空裝置和質(zhì)譜計校準標準漏孔
真空技術(shù)領(lǐng)域中一項重要內(nèi)容是真空檢漏技術(shù),真空檢漏有正壓檢漏或負壓檢漏,檢漏儀一般都需要標準漏孔對其靈敏度進行校準。標準漏孔也根據(jù)用途和校準方法分為正壓漏孔和真空漏孔,本文只限于真空漏孔的校準(以下稱為標準漏孔)。常見的標準漏孔有玻璃鉑絲型、薄膜滲氦型、玻璃毛細管型、金屬壓扁型、多孔型和放射型。
標準漏孔漏率的絕對校準方法有流量計法和氣體累積法兩種,目前國內(nèi)多采用前一種方法,例如國家計量院和蘭州近代物理研究所都建立了裝置。美國國家標準(ASTM E908-98)采用了氣體累積法建立的標準裝置。
1、裝置簡介及工作原理
1.1、膨脹法真空裝置
膨脹法壓力校準系統(tǒng)最早是1910年由克努曾最早提出,該方法基于利用波義耳一馬略特定律,即在恒溫條件下,一定質(zhì)量的氣體的壓力與體積之積為一常數(shù)。單級膨脹系統(tǒng)結(jié)構(gòu)比較簡單,就是將穩(wěn)壓室內(nèi)壓力為尼的氣體通過體積為K的小體積取樣,膨脹到體積為V的大體積的校準室中,通過計算得到校準室內(nèi)的低壓力值P見公式(1)。
P = P0Vs/(V+Vs)= kP0 (1)
其中k=Vs/(V+Vs)稱做膨脹比。如果連續(xù) n 次膨脹,校準室內(nèi)的壓力值P可以方便地近似按照公式(2)計算,此公式可以校準熱傳導(dǎo)真空計或電離真空計。
但對于高精度的薄膜真空計必須按照精確公式(3)計算。
P(n) = nkP0 (2)
P(n) = kP0(n) + (1-k)P(n-1) (3)
式中:P(n)——————第 n 次膨脹后校準室內(nèi)的壓力值 (Pa)
P(n-1)——————第(n-1)次膨脹后校準室內(nèi)的壓力值 (Pa)
P0(n)——————第 n 次取樣時間穩(wěn)壓室內(nèi)的壓力值 (Pa)
在不同年代、不同實驗室、不同研究者所研制的膨脹法標準裝置無論在結(jié)構(gòu)和性能上都有很大的差異。我們所建立的標準裝置技術(shù)參數(shù)如表1。
項 目
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參 數(shù)
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校準室體積V
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V1=64.96L,V2=63.85L
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取樣室體積Vs
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v1=0.0536L,v2=0.4049L
v3=0.0715L,v4=0.4050L |
膨脹比k
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k1=8.333×10-4,k2=6.233×10-3
k3=1.127×10-3,k4=6.343×10-3 |
極限真空度Pb
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5.0×10-7Pa
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靜態(tài)保持壓力(1min)
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第一級8.0×10-5Pa
第二級7.2×10-6Pa |
前級參考標準量范圍和不確定度
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(104—7×105)Pa 0.012%
(101—7×104)Pa 0.05% |
裝置校準范圍和最佳校準能力
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(10-1—7×101)Pa 0.5%—0.1%
(10-3—7×10-1)Pa 2.2%—0.05% |
殘余氣體四極質(zhì)譜計
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TSPTT200
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